集成電路材料産業位于集成電路産業鏈上遊,是⛹🏻♀️整個行🔞業🧑🏽🎄的根基,材料的品質直接影響集成電路産品性能。矽晶圓、光掩膜、光刻膠及附屬産品、濺射🙈靶材等😝集成電🏃🏿♀️➡️路關鍵材料的穩定供應與集成電路制造企業生産進度高度相關,對集成電路市場及整個産業的發展具有決定性影響。目前,我國集成電路關鍵材料供應三分之二以上依賴從境外🧑🏻❤️🧑🏼進口,極易受到産🚶🏾♀️➡️業生态🧑🏽🎄改變、國際政治經濟環境🧜🏼♀️惡化、自然災害突發、流行疾病擴散等👺風險因素影響。
2018~2019年,全球集成電路材料産業發展态勢平穩,市場規😘模維持✡️在520億🙂↔️美元以上。其中,中國台灣集成電路材料市場規模連續十年位☠️居全球第一。中國大陸
集成電路市場規模小幅增長,2019年達到86.9億美元,始終保持在全球前三位。另外,全球矽晶圓、光掩膜、光刻膠及附屬😮💨産品、濺射靶材等關鍵材料銷售總額占🧑🏾🎄比超六成。日本在集成電路關鍵材料領域優勢明顯,關鍵材料全球市占率均超五成。
近年來,全球市場平穩發展,中國台灣仍居第一。關鍵制造材料銷售總額占比超六成。集體電路材料是集成電路産業鏈中細分領域最多的環節,貫穿😥集成電路晶圓制造、前道工藝🚶🏾♀️➡️(芯片制造)、後道工藝(封裝)整個過程,另外,涉及的應用包括矽晶圓、光掩膜、光刻膠及💔附屬産品、濺射靶材、化學😜機械研磨(CMP)材料、電子特種氣體、濕法化學品、封裝基闆、引線😜框架、液體密封劑、鍵合絲、錫球、電鍍液等,其中,矽晶圓、光掩膜、光刻膠及附屬産品、濺射靶材是集成電路制造産業需💌求量最大、使⛹🏻♀️用量最多的核心關鍵😝材料。據國際半導體設🧛🏾♀️備與材料産業協會(SEMI)最~新報告數據顯示,2019年,全球集成電路制造材料的銷售總額爲😁328億美元;矽晶圓、光掩膜、光刻膠及👾附屬産品、濺射靶材四大集成電路制造關鍵材料ˇ的銷售額分别爲111.5億美元、38.7億美元、33.7億美元和28.7億美元,各😁占全球集成👩🏽🐰👩🏿電😺路材料銷售總額的34%、11.8%、10.3%和8.8%,合計占比超過全球集成電路材料銷售總額的六成;其次,CMP研磨液和電子特種氣體銷售額分别爲7.9億美元和5.5億美元。
①矽晶圓。其是最重要的集成電路材料,分爲抛光片、外延片、退👼🏾火片、節隔離片和絕緣體上矽片多種類型,其中抛😺光片☠️是需求量最大的産品,其他矽晶圓🚶🏾♀️➡️産品也都是在抛光片基礎上二次加工而成的。目前,矽晶圓直徑尺寸💁🏼♀️主要有3英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸(300毫米)、18英寸(450毫米)幾種規格。矽晶圓越大,可制作的🎅🏿集成電路芯片😁數量就越多,每個芯片的制造成本就越低。因此,大尺寸晶圓是矽晶圓産業的發展方😗向。但矽片尺寸越大,對工藝設備、材料和技術的要👽求也越高,制備難度越大。因此🧑🏽❤️💋🧑🏻,矽晶圓具有極高的技術壁壘,全球隻😌有10家企業有能力制造,其中排名前五企業的全球市場份額約爲90%。
②光掩膜(Photomask),又稱光罩。其是由鉻金屬薄膜石英玻璃片制成,是集成電路制造的“底片“。是承載集成電路設㊙️計圖🧑🏻❤️🧑🏼案和知識産權🧜🏼♂️信息的載體。目前全球光掩膜的廠商主要集中在海外。
③光刻膠。其是由感光樹脂、增感劑、溶劑三種主要成⛹🏻♂️份🛀🏼組成🙉。在集成電路光刻工藝中,光刻膠被均勻塗布在襯底上,經曝光、顯影和刻蝕等步驟,将光掩膜💕上的集成電路圖案轉移到襯底上。目👌前,全球光刻膠市場行業集中度很高,呈現寡頭壟斷局面。
④濺射靶材。其是集成電路濺射工藝中所使用的原材料,按成💕分可分爲純金屬靶材(純金屬銅、鋁、钛、钽等)、合🔞金靶材(鎳钴合金、鎳🔞鉻合金等)和陶瓷化合物👩🏿❤️💋👨🏽靶材(矽🔞化物、碳化物、氧👱🏼♂️化物、硫💯化物等)。濺射技術于19世紀40年代起源于西😸方,因此國外在濺射靶材制備生産方面擁有一個多世⛹🏻♂️紀的積澱。